负压法二氧化氯发生器FSQT

负压法二氧化氯发生器采用化学法现场制备二氧化氯并同时进行投加的设备，外形结构为落地柜式。投加水射

器在柜式发生器内。T70G4000生成CLO₂（二氧化氯）的反应物：NaCLO₂（亚氯酸钠）+

HCL（盐酸）。T70GC4000生成CLO₂的反应物：NaCLO₂+HCL+NaCLO（次氯酸钠）。

T70GT4000生成CLO₂的反应物：NaCLO₂+CL₂（氯气）。所产生CLO₂的生成物含量在

95%以上。该系统为负压投加系统（不同于采用计量泵的正压投加系统）。因而安全性及可靠

性更高。

压力水流经水射器生成负压，吸入二氧化氯溶液与水射器投加水混合，投入工艺过程。流入

发生器的反应物，由浮子流量计测量流量。如果是手动操作的发生器，反应物投加量和二氧化氯

发生量由流量计本身带的手动阀控制。反应物和用以优化反应的水被抽取进入反应塔，从塔中流

出的二氧化氯溶液流过一个观察镜，可以通过颜色来估计产出量。如果系列为自动控制，流过流

量计的反应物由一个三个阀座的CHLOROMATIC阀控制，这个阀的阀芯的形状可以反映正确的

剂量比。阀的执行器可接受外部控制装置的4~20mA控制信号，自动调节二氧化氯的发生量。

负压法二氧化氯发生器 特 点

• 高产出率：CLO₂产生率＞95%
• 运行费用低：使用商品浓度原料，无需稀释
• 低维护费用：可动部件少，负压运行，部件过压损坏率低
• 准确：原料进入为流量计直接测量，精度高
• 运行安全：负压操作，无产生压力的泵，无外泄之虑直接投加，不需存储所产生的CLO₂
• 高效自控：可实现多种自动控制方式

负压法二氧化氯发生器 技术参数

• 投加量：T70G4000 80g/h~10kg/h T70GT4000 15kg/h~30kg/h

T70GC4000 350g/h~9kg/h

• 低发生量：T70G4000 80,150g/h NaCLO2 7.5%（80g/L，у=1.07）

HCL 8.5%（88g/L,у=1.04）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（23.2mL）+HCL（23.2mL）
• 高发生量：300g~10kg/h~30kg/h NaCLO₂ 25%（306g/L,у=1.22）

HCL 32%（371g/L,у=1.16） NaCLO 14%（у=1.20）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（6mL）+HCL（4.3mL）

CLO₂（1g）←→NaCLO₂（4.25mL）+HCL₂（0.55gg）

• 稀释水压力：≤150kpa稳定
• 控制输入：4~20mA
• 化学品容器标高：容器底部min1.5m高度
• 水射器工作水压：max.2.0MPa
• 发生器环境温度：5~30℃，*佳20℃
• 自动控制输出信号：1.控制阀位4~20mA（1）

2.自动手动切换SPDT触点（1）

3.低真空触点SPDT触点（1）（选择项）

4.反应物缺乏报警SPDT触点（2）

• 调节范围：建议50~99%投加量
• 控制方式：详见下图
• 外形尺寸：610（L）×1524（H）×650（W）mm

注：反应物中不能含有氢氟酸。从反应物容器至发生器管路上应安装过滤器。

二氧化氯发生器投加系统控制方式

对控制系统配置选择残余量及复合环路控制需另配分析仪表和外部控制器，系统配置设计

请咨询上海费波自控技术有限公司。

A.水流量稳定和被氧化物质稳定的工艺过程 B.水流量变化和被氧化物质稳定的工艺过程

手动控制 流量比例控制

C.水流量稳定和被氧化物质不稳定的工艺过程 D.水流量变化和被氧化物质不稳定的工艺过程

二氧化氯残余量负反馈控制 二氧化氯残余量和水流量复合环控制