光学玻璃基涡旋波片超声波清洗机VGT-1409FH
疑问？光学玻璃基旋涡波片主要清洗的目标是什么：
光学玻璃基涡旋波片在制造和封装过程中可能残留以下污染物，超声波清洗可高效去除：
1、抛光残留物（如氧化铈、二氧化硅颗粒）。
2、有机污染物（指纹、油脂、灰尘）。
3、金属离子或无机盐（来自加工环境或化学处理）。
4、临时保护膜或光刻胶残留（如用于微结构制作的抗蚀剂）。
威固特VGT-1409FH超声波清洗机所具备的清洗优势等技术功能如下：
相比传统清洗方法（如手动擦拭、喷淋清洗），威固特VGT-1409FH超声波清洗机在光学玻璃基涡旋波片生产中具有以下优势：
优势 | 说明 |
高效去污 | 超声波空化效应可深入微米级结构，清除顽固颗粒和有机残留。 |
均匀清洗 | 避免人工擦拭造成的局部划伤或污染不均匀问题。 |
批量处理 | 可同时清洗多片波片，提高生产效率。 |
减少化学溶剂用量 | 超声波增强清洗液活性，降低对强酸/碱溶剂的依赖 |
可控性强 | 通过调整频率、功率时间优化清洗效果，适配不同污染性。 |
威固特VGT-1409FH超声波清洗机推荐技术参数（为确保清洗效果并避免损伤）：
参数 | 推荐范围 | 注意事项 |
频率 | 25-40KHZ | 低频（25KHZ）适合去大颗粒，高频（40KHZ）适合精细清洗，但需避免过高频率导致微结构共振。 |
功率密度 | 30-50W/L | 功率过高可能损伤镀膜或导致玻璃表面微裂纹。 |
清洗时间 | 1-3分钟 | 过长时间可能引发材料疲劳（尤其对镀膜波片）。 |
清洗液 | 去离子水 + 中性表面活性剂（如5%异丙醇） | 避免强酸/碱溶液腐蚀镀膜或玻璃。 |
温度 | 20-40℃ | 适当升温可提升清洗效率，但超过50℃可能影响某些光学胶或镀层稳定性。 |
威固特VGT-1409FH超声波清洗机分步清洗流程：
步骤1：预清洗（可选）
目的：去除大颗粒松散污染物，减少超声波负载。
方法：
用氮气吹扫波片表面。
浸泡于去离子水中，手动摇晃10秒。
步骤2：超声波主清洗
参数：
清洗液：按污染类型选择。
功率：8W/L（如10L槽体=80W）。
时间：2分钟。
操作：
将波片装入支架，完浸没于清洗液（液面高出波片≥2cm）。
启动超声波，观察清洗液流动是否均匀（避免死角）。
步骤3：漂洗
目的：去除清洗液残留。
方法：
一级漂洗：超纯水（电阻率≥18.2 MΩ·cm）中浸泡1分钟，轻微摇晃。
二级漂洗：流动超纯水冲洗30秒（流速1L/min）。
步骤4：干燥
氮气吹干：
使用0.1μm过滤的氮气，压力≤0.2MPa。
从波片中心向外螺旋式吹扫，角度45°（避免液滴残留）。
