μMLA是桌面式激光直写的新技术，在科研微结构的应用领域中是一台适合入门级的工具。μMLA具有灵活性和可定制性，可支持小至毫米大小范围的样品。
μMLA原理：
利用强度可变的激光束对基片表面的抗蚀材料实施变剂量曝光，显影后便在抗蚀层表面形成要求的图形。
μMLA具有以下优点：
Ÿ 分辨率高
Ÿ 无掩模光刻
Ÿ 灵活性与可定制性
Ÿ 可以设定多样的实验条件
主要功能
Ÿ 光栅扫描曝光
Ÿ 快速曝光复杂的图形
Ÿ 灰度光刻
技术能力
Ÿ 基板尺寸：从5毫米到5英寸
Ÿ 特征尺寸：低至0.6 µm
Ÿ 写入速度（4 µm分辨率）：200 mm 2 / min
Ÿ 实时自动对焦系统
Ÿ 正面对准
Ÿ 易于使用的操作软件
Ÿ 2种可用的光学设置
Ÿ 曝光模块选择：光栅和/或矢量扫描
Ÿ 可变分辨率
Ÿ 绘画模式
Ÿ 波长（光栅扫描）：390 nm或365 nm曝光波长
Ÿ 波长（矢量扫描）：405 nm和/或375 nm
Ÿ 广角摄像机，用于对准和检查
应用
半导体芯片、微机电、微流体、微光学、掩模版及其他有微纳米结构需求的领域。 
