产品展示
【简单介绍】
【详细说明】
性能 型号 | CZ-1000 | CZ-1200 | CZ-1400 | CZ-1600 | CZ-1800 | CZ-2000 |
镀膜室尺寸 | Ф1000 ×H1250mm | Ф1200 ×H1450mm | Ф1400 ×H1950mm | Ф1600 ×H1950mm | Ф1800 ×H1950mm | Ф2000 ×H1950mm |
蒸发功率 | 5KW | 20KW | 20KW | 25KW | 30KW | 35KW |
整机总功率 | 23KW | 38KW | 58KW | 65KW | 85KW | 95KW |
极限真空 | 8.0×10-4Pa | |||||
真空室结构 | 立式门、立式单开门、卧式单开门、后置真空获得系统 | |||||
电源类型 | 电阻蒸发电源、离子轰击电源 | |||||
抽气时间 (空载、干净容体) | 5.0×10-2Pa≤6分钟 | |||||
镀膜室材质 | 优质碳钢或不锈钢材质 | |||||
真空获得系统 | 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵(型号可根据客户的需求进行配置) | |||||
冷却方式 | 水循环冷却方式,另需配冷却水塔或工业冷水机。 | |||||
工件转架转动方式 | 手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC控制 | |||||
报警及保护 | 对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警,并执行相应保护措施。 | |||||
其他技术参数 | 水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa | |||||
备注 | 镀膜设备的具体配置可根据客户的镀膜产品工艺要求进行设计。 |
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1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩模可以获得清晰图形;
2.设备比较简单,操作容易;
3.制成的薄膜纯度高,厚度可较准确控制
4.薄膜生长机理较简单
5主要结构:真空室;蒸发源;基板;基板加热器及测温计
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