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溅射沉积成膜 溅射沉积成膜的生长过程大致可分为成核、几个阶段。影响薄膜生长的因素主要有溅射气体、度、靶材、本低真空度和溅射工作气压。分别介绍如下： 高纯度等特点。一般来说，氩气是较理想的溅射气体。 溅射电压及基片电压：这是影响薄膜性能的两个重要参数。溅射电压不仅影响沉积速率，而且还严重影响沉积薄膜的结构。基片电压直接影响入射的电子流或离子流。如基片接地，则受到同等的电子轰击；若基片悬浮，则在辉光放电区取得相对于地的电位稍负的悬浮电位V1，而基片周围等离子体的电位V2要高于基片电位，这将引起一定程度的电子和正离子的轰击，导致膜厚、成分和其他特性的变化；若对基片有目的地施加偏压，使其按电的极性接受电子或离子，不仅可以净化基片、增强膜的附着力，而且还可以改变膜的结构。 湖南瑞峰腾润滑设备科技有限公司供应*法国LEYBONOL莱宝真空泵油LVO120
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